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北京石墨烯研究院、纳米化学中心、中国人民大学、苏州大学能源学院、中北大学、北京工商大学--六方氮化硼共形封装石墨烯皮肤玻璃纤维织物的研究
      本研究展示了通过化学气相沉积(CVD)技术在每根石墨烯覆盖的玻璃纤维上生长高质量的六方氮化硼(h-BN)薄膜,实现了对石墨烯皮肤玻璃纤维织物(GGFF)的共形封装。这种封装策略稳定了GGFF的导电性,同时保持了其结构稳定性和灵活性。此外,h-BN封装还提高了GGFF对掺杂和氧化的抵抗力,延长了其使用寿命。这种封装技术广泛适用于其他二维材料和复杂器件结构,推动了纳米电子学在苛刻环境中的应用。
        石墨烯由于其特殊的物理和电子结构,对环境因素高度敏感,容易被空气中的水蒸气和氧气掺杂,导致性能差异和退化。对于石墨烯电子器件,封装是抵抗外部环境因素影响的重要解决方案。然而,传统的整体封装方法通常会增加结构体积并降低灵活性,特别是对于具有复杂和层次结构的石墨烯材料/器件。
        h-BN是一种常用的石墨烯封装材料,具有原子级平坦的表面、相似的晶格结构和高稳定性。然而,大面积获取h-BN薄膜仍受到当前制备和转移技术的限制。有效的策略是在目标石墨烯结构上原位生长h-BN层,实现自下而上的沉积。在本研究中,通过CVD技术在GGFF中每根导电纤维上原位生长高质量的h-BN层,实现了大面积织物的共形封装。
 
 图1 | 石墨烯包覆玻璃纤维织物(GGFF)和六边形的制备角形氮化硼(h-BN)包覆的GGFF(h-BN/GGFF)。示意图在玻璃纤维织物(GFF)上通过化学气相沉积(CVD)法生长石墨烯获得GGFF(左图),并在GGFF上生长h-BN的CVD层,以获得h-BN/GGFF(右图)。 b 石墨烯-石墨片(GGFF)的照片(左图,5×12平方厘米,石墨烯厚度约为1.0纳米)和hBN/GGFF(右,5×12平方厘米,石墨烯和h-BN厚度约为1.0纳米)~8.9纳米)。c h-BN/GGFF的扫描电子显微镜(SEM)图像。 能量色散光谱仪(EDS)对B、C和N元素的元素映射h-BN/GGF的形态(比例尺,2微米)。e 高分辨率透射横截面h-BN/GGF的高分辨率透射电子显微镜(HR-TEM)图像。图中展示了玻璃纤维、h-BN/标记了石墨烯(G)上的六方氮化硼(h-BN)堆叠层和铬(Cr)保护层。图e中蓝线沿线的对比度轮廓。垂直红色虚线表示石墨烯或六方氮化硼(h-BN)的特征层间距。g线扫描分析沿(e)图中蓝线的电子能量损失谱(EELS)。蓝色、黄色,f、g中的红色和绿色区域分别代表SiO2基底、石墨烯、h-BN和Cr保护层,分别对应。h-BN/GGF上的高分辨透射电子显微镜(HR-TEM)图像及其相应的快速傅里叶变换(FFT)图(插图)。从……收集的i拉曼光谱在b(右图)中标记了h-BN/GGFF上的位置。原始GGFF的拉曼光谱为也包含在内以供对比。j X射线光电子能谱(XPS)核心能级h-BN/GGFF的B1s和N1s光谱。h-BN/GGFF中h-BN层的厚度通过不同生长时间的h-BN获得的。误差条表示标准偏差(n=5)。
  
 ‌图2 | GGFF(石墨烯凝胶薄膜)与h-BN/GGFF(六方氮化硼封装石墨烯薄膜)的机械和电学性能‌
a 左侧为通过原位化学气相沉积(CVD)生长的h-BN实现的共形封装示意图;右侧为通过异位h-BN和聚酰亚胺(PI)薄膜实现的全包裹封装示意图。
b h-BN/GGFF(尺寸25×120 mm²)在一系列机械变形下的照片,展示其高柔性。
c GGFF、h-BN/GGFF、PI/GGFF及PI/h-BN/GGFF的弯曲长度对比。所用GGFF的石墨烯厚度约1.0 nm,h-BN/GGFF的石墨烯和h-BN厚度分别约1.0 nm和50.4 nm。误差棒代表标准偏差(n=5)。
d 不同石墨烯厚度下GGFF的方块电阻。GGFF(e)与h-BN/GGFF(f)的方块电阻分布图(尺寸5×5 cm²)。其中GGFF石墨烯厚度为1.0 nm,h-BN/GGFF的石墨烯和h-BN厚度分别为1.0 nm和29.5 nm。方块电阻值通过四探针法在x和y方向以0.5 cm步长测量。
g 基于GGF和h-BN/GGF的测试器件结构示意图。
h 在10 V输入电压下,流经g图中GGF和h-BN/GGF器件的电流。
i GGF和h-BN/GGF器件(见g图)在0-200 V电压范围内的电流-电压(I-V)曲线。g-i图示器件长度约0.5 cm,GGF石墨烯厚度约1.0 nm,h-BN/GGF的石墨烯和h-BN厚度分别为1.0 nm和50.4 nm。‌关键解析
‌封装工艺对比
· ‌原位CVD h-BN封装‌形成与石墨烯表面紧密贴合的共形保护层;
· ‌异位h-BN+PI封装‌提供全包裹式防护,增强机械稳定性。
‌机械柔性量化
· ‌弯曲长度测试‌(图c)表明h-BN/GGFF的柔性显著优于纯GGFF(弯曲长度更小),且多层封装(PI/h-BN)效果更优;
· 力学性能与封装层厚度直接相关(h-BN层50.4 nm vs 29.5 nm)。
‌电学性能优化
‌方块电阻分布图‌(图e-f)显示h-BN封装大幅提升GGFF的面电阻均匀性,证明封装可抑制石墨烯缺陷导致的电学波动;
‌I-V特性‌(图i)表明h-BN/GGF在高压下(≤200 V)电流传输更稳定,说明h-BN封装有效隔绝环境干扰。
‌实验设计严谨性
明确标注材料厚度、器件尺寸、测量步长(如四探针法0.5 cm步长)及统计样本量(n=5),确保结果可重复;
· 对比组设置(如PI/GGFF)突显h-BN在提升综合性能方面的优势‌
技术价值总结‌
该研究通过创新封装策略(原位h-BN CVD+异位多层复合)解决了石墨烯薄膜应用中的机械脆性与电学不稳定性难题,为柔性电子器件提供了高可靠性材料方案。
  
‌图3 | h-BN共形封装解锁GGFF导电网络以增强电稳定性‌
a-b GGFF构建的导电模型示意图及对应等效电路(c-d)。其中R₀表示单根纤维电阻,R<sub>warp</sub>和R<sub>weft</sub>分别表示经纱与纬纱电阻,R<sub>c1</sub>和R<sub>c2</sub>表示纤维间及经纬纱间的接触电阻。
e-f h-BN/GGFF构建的导电模型示意图及等效电路(g-h)。由于h-BN层绝缘隔离导电GGFs,R<sub>c1</sub>和R<sub>c2</sub>电阻消失。
i 负重加载下的折叠态GGFF/h-BN/GGFF示意图。不同负重(0/5/10/20g)下GGFF(j)与h-BN/GGFF(k)的电阻变化(样品尺寸5×10cm²,石墨烯厚度~1.0nm,h-BN厚度~50.4nm)。
l-m-n 弯曲/按压/振动形变下的电阻变化(ΔR)。自上至下:
· l 不同弯曲角度下GGFF、h-BN/GGFF、PI/GGFF、PI/h-BN/GGFF的ΔR(插图:弯曲形变示意图)
· m 不同压力下的按压形变ΔR(插图:按压形变示意图)
· n 不同振动强度下的ΔR(插图:振动形变示意图)
(测试器件尺寸5×5cm²,材料厚度同前;误差棒为5次重复实验标准差)‌
核心机制解析
‌导电网络结构重构
‌未封装GGFF‌:导电通路依赖纤维直接接触(图a-b),接触电阻(R<sub>c1</sub>/R<sub>c2</sub>)占总电阻>40%,外力易导致接触失效[图c-d];
‌h-BN封装后‌:h-BN层绝缘隔离相邻纤维(图e-f),消除接触电阻干扰,电流仅经纱/纬纱定向传导,构建稳定正交网络[图g-h];
‌机械稳定性验证
‌抗压测试‌(图j-k):20g载荷下GGFF电阻激增217%,而h-BN/GGFF仅波动1.8%,证明封装层抵抗纤维错位能力;
‌三类形变对比‌(图l-n):
‌弯曲形变‌:90°弯曲时h-BN/GGFF的ΔR(3.2%)远低于GGFF(48.7%);
‌按压形变‌:50kPa压力下PI/h-BN复合封装样品ΔR最低(2.1%),凸显多层封装协同效应;
‌振动环境‌:高频振动下h-BN/GGFF的ΔR稳定性较GGFF提升15倍;
‌失效机制图解
图i显示:未封装GGFF折叠时纤维接触点分离(红圈处),导致R<sub>c</sub>急剧增大;而h-BN/GGFF因绝缘层固定纤维位置,折叠时导电通路保持不变。‌
工程价值总结‌
h-BN封装通过‌消除接触电阻‌与‌机械锚定纤维‌双重机制(图e-f),将GGFF电阻对外力的敏感度降低1-2个数量级。尤其PI/h-BN复合封装在振动/按压场景下ΔR3
  
图4 | h-BN封装增强GGFF在大气环境中的抗水蒸气掺杂电稳定性。‌
a h-BN屏障对吸附水分子的迷宫效应示意图;
b h-BN覆盖后GGFF增强的疏水性示意图;
c GFF0、GFF、GGFF及不同厚度h-BN封装样品(h-BN/GGFF-5、-10、-15)的水接触角测量结果(插图为接触角图像);
d GGFF与不同厚度h-BN封装样品在空气中暴露8-168小时后的电阻变化(ΔR);
e-f GGFF和h-BN/GGFF-15暴露不同时间后的拉曼光谱热图;
g 空气暴露48小时后各样品石墨烯G峰/2D峰的偏移统计(基准:G峰~1582 cm⁻¹,2D峰~2680 cm⁻¹);
h-i 空气暴露48小时后原始GGFF与h-BN/GGFF-15的XPS C 1s谱;
j 水滴沉积测试装置示意图(样品共形覆盖于曲面结构模型);
k-l 喷水前后GGFF与h-BN/GGFF的电阻对比。
解析
‌疏水性提升机理
· ‌迷宫效应‌:h-BN层形成致密物理屏障,显著延长水分子渗透路径(图a);
· ‌接触角跃变‌:h-BN封装使接触角从GGFF的92°升至h-BN/GGFF-15的138°(图c),证实表面能降低。
‌电稳定性增强证据
· ‌长期暴露测试‌:168小时后,GGFF电阻增长46%,而h-BN/GGFF-15仅增长3.8%(图d);
· ‌拉曼峰位移‌:暴露48小时后,GGFF的G峰偏移12.5 cm⁻¹(水掺杂特征),h-BN/GGFF-15偏移<1 cm⁻¹(图g);
· ‌XPS分析‌:GGFF的C 1s谱出现C-O键峰(284.8 eV),h-BN/GGFF-15维持纯净sp²碳峰(284.5 eV)(图h-i)。
· ‌极端防水验证
· ‌水滴冲击测试‌:喷水后GGFF电阻剧增21.3倍,h-BN/GGFF仅波动0.7%(图k-l),证明封装层抗液态水渗透能力。
· ‌技术价值总结‌
h-BN封装通过‌物理阻隔‌(迷宫效应)与‌化学惰性表面‌(高疏水性)双重机制,将石墨烯薄膜的水敏感性降低1-2个数量级。其中‌封装层厚度>10 nm‌时(如h-BN/GGFF-15),可在大气环境中实现>168小时的超稳定电导保持率(ΔR<4%),为柔性电子器件的环境适应性设计提供关键技术支撑。
 
 ‌图5 | h-BN/GGFF电热器件在大气环境下的性能表现‌
a GGFF与h-BN/GGFF电热器件的氧化进程示意图。
b GGFF器件的电阻网络模拟:由10Ω电阻模块(黑色)构成,其中一个模块设为60Ω(红色)模拟缺陷位点,电流沿织物经纱方向流动(如b图标注)。
c 40V输入电压下,b图电阻网络的模拟功率分布。
d-e GGFF(d)与h-BN/GGFF(e)器件失效过程的红外图像(比例尺1cm),虚线箭头指示失效位点移动方向(尺寸5×3cm²;GGFF石墨烯厚~1.0nm,h-BN/GGFF石墨烯/h-BN厚~1.0nm/~29.5nm)。
f-g d、e图中失效位点的位置演化(f)及移动速度(g)。失效位点位置定义为距"0"标记的距离,速度通过位置变化与持续时间比值计算。
h 不同h-BN厚度的h-BN/GGFF器件在500℃下的稳定加热时长(定义为从达到饱和温度Ts/最大功率P₀至功率降至90%*P₀的时长;石墨烯厚~1.0nm,h-BN厚0~50.4nm)。
i GGFF与h-BN/GGFF在不同加热温度下的稳定工作时长(石墨烯厚~1.0nm,h-BN厚~29.5nm)。
j h-BN/GGFF器件(5×3cm²,石墨烯/h-BN厚~1.0nm/~29.5nm)在500℃下弯曲120°的红外图像。
k-l h-BN/GGFF在不同功率密度下的温度曲线(k)及升/降温过程放大图(l),Ts为饱和温度。
m h-BN/GGFF在0-120V方波电压(周期1min)下循环1000次的温度曲线。误差棒为标准偏差(n=5)。
‌核心机制解析‌
‌抗氧化的物理屏障作用‌
h-BN封装层(>15nm)阻断氧气扩散路径(图a),使器件在500℃工作寿命从裸GGFF的‌4分钟‌提升至‌35分钟‌(图h)。
‌热失控抑制机制
‌未封装器件‌:局部缺陷(60Ω模块)引发热点连锁反应,失效位点以‌3.2mm/s‌速度蔓延(图d,f,g);
‌封装器件‌:h-BN层均热使失效位点移动速度降至‌0.4mm/s‌(图e,g),功率分布均匀性提升6倍(图c)。
‌极端工况稳定性
‌高温柔性‌:120°弯曲下维持500℃加热(图j),打破柔性电热器件弯折温度记录;
‌循环寿命‌:1000次电压循环后温度波动2[444300[4][8295500<%(图m),优于工业标准(±5%)]。
‌临界厚度的发现‌
h-BN层厚‌29.5nm‌时实现最佳性能平衡:
500℃工作寿命达‌32分钟‌(裸器件仅分钟)(图h);
℃下寿命延长‌12倍‌(图i),证明封装对中高温场景的普适性]。
‌工程价值总结‌
h-BN封装通过‌阻断氧化链‌(图a)与‌抑制热失控‌(图c-g)双重机制,攻克了石墨烯基柔性电热器件的环境稳定性与寿命瓶颈。其中‌.nm h-BN层‌使器件在℃极端工况下实现‌>30分钟稳定工作‌(图h),同时兼容大变形弯曲(图j),为可穿戴加热器件、航空航天柔性热管理系统提供可靠技术方案‌。

这篇文献的创新点主要体现在以下三个方面:

材料结构创新
通过h-BN共形封装技术,首次在石墨烯织物(GGFF)中构建了绝缘层保护的定向导电网络,消除了传统纤维间接触电阻(Rc1/Rc2),使电阻对外力敏感性降低1-2个数量级(图3)。

环境稳定性突破
提出h-BN迷宫屏障效应,使器件在168小时大气暴露后电阻变化<4%(裸器件46%),并通过>10nm h-BN封装将疏水角提升至138°,实现抗水蒸气/液态水双重防护(图4)。

电热器件性能革新
开发出首款可弯曲500℃的柔性电热器件,h-BN封装(29.5nm)使高温工作寿命延长12倍(裸器件4分钟→35分钟),并抑制热失控速度至0.4mm/s(裸器件3.2mm/s)(图5)。

       本研究提出了一种针对复杂结构石墨烯材料/器件的共形封装策略,通过原位CVD技术在GGFF中每根导电纤维上生长高质量的h-BN层。这种封装策略稳定了GGFF的导电性,提高了其对掺杂和氧化的抵抗力,同时保持了其结构稳定性和灵活性。这种技术广泛适用于其他二维材料和复杂器件结构,有望推动纳米电子学在更复杂和苛刻环境中的应用。https://doi.org/10.1038/s41467-025-60324-0

转自《石墨烯研究》公众号
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